單腔室濺射設(shè)備
機(jī)型:XHCS系列
單腔室濺射設(shè)備....
設(shè)備特點(diǎn)
? 高效沉積
磁場(chǎng)約束顯著提高了等離子體密度,使濺射速率遠(yuǎn)高于傳統(tǒng)濺射方法。
? 低溫成膜
電子能量主要用于電離而非加熱基片,基片溫升低,適用于塑料、半導(dǎo)體等對(duì)溫度敏感的材料。
? 膜層質(zhì)量?jī)?yōu)異
所得薄膜致密、均勻,與基片結(jié)合力強(qiáng),成分接近靶材,適合高性能功能薄膜制備。
? 適用材料廣泛
可濺射金屬、合金、陶瓷、氧化物等多種材料,支持反應(yīng)濺射制備化合物薄膜(如氮化物、氧化物)。